货号 | Particle Size | Chemical component(wt%) |
Summary/Features |
D50(um) | TRO | CeO2/TRO | F |
AR33 | 1.3 |
94 |
66 |
5 |
通用磨料，广泛应用光学玻璃基板、硬盘、光学玻璃、光掩模等研磨，研磨速率和表面质量方面有较好的平衡性 |
AR41 | 1.5 |
AR50 | 1.8 |
AR60 | 2.1 | 95 | 66 | 4 | 抛光光学玻璃等硬质材料，可达到优异的抛光速率 |
T | 1.5 | 94 | 70 | 5 |
CeO2含量较高，适用于水晶、石英、光学玻璃等硬质材料研磨，可实现优异的抛光速率
|
FL-2 | 1.3 | 99 | 94 | ＜1 |
FL-5 | 2.1 | 99 | 99 | ＜1 |
AR01 | 1.1 |
94 |
66 |
6 |
适用于高精度加工表面用途，此系列是由细微且柔软的粒子构成，能抑制细微刮伤的发生，特别是NZ系列产品，适用于光掩膜最终研磨 |
NZ02 | 1.1 |
NZ23 | 0.9 |
VZ2104 | 0.3 | 95 |
66 | - |
用于加工要求精度特别高的玻璃板，此系列粒度分布清晰、集中、细，产品型态为液体浆料 |
VZ15B | 0.2 |
HL40 | 1.76 | 95.5 | 65.9 | 6.7 | 通用磨料，广泛应用光学玻璃基板、硬盘、光学玻璃、光掩模等研磨，一次研磨使用 |
HL30 | 1.39 | 95.1 | 65.8 | 6.2 |
HL21 | 1.15 | 95.5 | 65.4 | 6.0 | 适用于光学等一次或二次研磨使用，有效保持研磨同时，提升产品的表面效果 |
HL10 | 0.85 | 95.6 | 66.4 | 5.7 | 适用于产品二次或精密研磨抛光，保持良好的表面效果同时，提升产品研磨速率 |
HL05 | 0.70 | 96.7 | 67.1 | 4.5 |
E030CS | 0.28 | 96.7 | 64.9 | 5.3 | 适用于高精度加工表面终极抛光 |
E020CS | 0.11 | 96.0 | 64.9 | 5.3 |